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腦氧模擬器技術(shù)規(guī)格組織氧飽和度模擬誤差 ：+-2%（40%~90%）以甲方提供樣機為標(biāo)準(zhǔn)，具體需要參考甲方樣機算法，初步定為正負 2%
腦氧模擬器
ESTO2
腦血氧技術(shù)規(guī)格：
1 組織氧飽和度 StO2 模擬范圍 ：0~100%；
2 組織氧飽和度模擬分辨率： 1%；
3 組織氧飽和度模擬誤差 ：+-2%（40%~90%）以甲方提供樣機為標(biāo)準(zhǔn)，具體需要參考甲方樣機算法，初步定為正負 2%；
4 輻射騷擾（RE）： CLASS B；
5 靜電（ESD） 空氣 8 千伏，接觸 15 千伏（注：非直接接觸光學(xué)探頭）；
6 標(biāo)準(zhǔn)要求 符合 YY0505：2012 和 IEC60601-1-2:2014。
腦氧模擬器
腦血氧技術(shù)規(guī)格：
1 組織氧飽和度 StO2 模擬范圍 ：0~100%；
2 組織氧飽和度模擬分辨率： 1%；
3 組織氧飽和度模擬誤差 ：+-2%（40%~90%）以甲方提供樣機為標(biāo)準(zhǔn)，具體需要參考甲方樣機算法，初步定為正負 2%；
4 輻射騷擾（RE）： CLASS B；
5 靜電（ESD） 空氣 8 千伏，接觸 15 千伏（注：非直接接觸光學(xué)探頭）；
6 標(biāo)準(zhǔn)要求 符合 YY0505：2012 和 IEC60601-1-2:2014。
腦血氧技術(shù)規(guī)格：
1 組織氧飽和度 StO2 模擬范圍 ：0~100%；
2 組織氧飽和度模擬分辨率： 1%；
3 組織氧飽和度模擬誤差 ：+-2%（40%~90%）以甲方提供樣機為標(biāo)準(zhǔn)，具體需要參考甲方樣機算法，初步定為正負 2%；
4 輻射騷擾（RE）： CLASS B；
5 靜電（ESD） 空氣 8 千伏，接觸 15 千伏（注：非直接接觸光學(xué)探頭）；
6 標(biāo)準(zhǔn)要求 符合 YY0505：2012 和 IEC60601-1-2:2014。
